陶瓷氧化鋅的制備方法
發(fā)布時間：2021-08-20 14:39 作者：氧化鋅
目前，制備陶瓷氧化鋅主要有物理法、化學法及一些興起的新方法。
1.物理法
物理法是采用光、電技術使材料在惰性氣體或真空中蒸發(fā)，然后使原子或分子形成納米微粒，或使用噴霧、球磨等力學過程為主獲得納米微粒的制備方法[1]。用來制備納米ZnO的物理方法主要有脈沖激光沉積(PLD)、分子束外延(MBE)、磁控濺射、球磨合成、等離子體合成、熱蒸鍍等。此法雖然工藝簡單, 所得的氧化鋅粉體純度高、粒度可控，但對生產設備要求高，且得不到需要粒徑的粉體，因此工業(yè)上不常用此法。
2.化學法
2.1液相法
2.1.1 直接沉淀法
直接沉淀法就是向可溶性鋅鹽溶液中加入沉淀劑，經過反應形成沉淀物，再通過過濾、洗滌、干燥、煅燒從而制得超細的納米 ZnO 粉體。選用的沉淀劑有氨水(NH3· H2O)、碳酸銨((NH4)2CO3)、碳酸氫銨(NH4HCO3)、草酸銨((NH4)2C2O4)、碳酸鈉(Na2CO3)等。該法操作簡便易行、所得產品純度高、對設備要求低且易規(guī)模生產，但是存在在洗滌的過程中陰離子難以洗盡、產物粒度分布不均勻、分散性較差、粉體易團聚等缺點。
2.1.2 均勻沉淀法
均勻沉淀法是緩慢分解的沉淀劑與溶液中的構晶陽離子 （ 陰離子）結合而逐步、均勻地沉淀出來。常用的沉淀劑有尿素和六亞甲基四胺。該法克服了沉淀劑局部不均勻的現象，制得的陶瓷氧化鋅粒徑小、分布窄、團聚小及分散性好，但反應過程耗時長、沉淀劑用量大、PH 的變化范圍較小、產率相對較低。而從總地來講，均勻沉淀法優(yōu)于直接沉淀法。
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